Pulsed Nd: YAG lazerli tozalash jarayoni lazer tomonidan ishlab chiqarilgan yorug'lik pulslarining xususiyatlariga asoslanadi, bu esa yuqori zichlikdagi chastotalar, qisqa pulsli lazerlar va kontaminatsiyalangan qatlamlar o'rtasidagi o'zaro ta'sirning oqibatidagi fotofizik reaktsiyalarga asoslangan. Jismoniy tamoyillari quyidagicha umumlashtirilishi mumkin:
a) Lazer tomonidan chiqarilgan nurlanishni davolash uchun mo'ljallangan yuzaning ifloslangan qatlami so'riladi.
b) Katta energiyaning emirilishi shok to'lqinini yuzaga keltiradigan tez sur'atlarda kengayadigan plazma (yuqori ionlashtirilgan kararsiz gaz) hosil qiladi.
c) zarba to'lqinlari ifloslantiruvchi moddalarning bo'laklarga aylanishiga olib keladi va rad etiladi.
d) nur pulsining kengligi, ishlov beriladigan sirtni shikastlanishiga olib keladigan issiqlikning oldini olish uchun etarlicha qisqa bo'lishi kerak.
e) Eksperimentlar shuni ko'rsatdiki, metall yuzasida oksid mavjud bo'lganda, plazma metall yuzasida hosil bo'ladi.
Plazma energiya zichligi ifloslangan yoki oksidlangan qatlamga bog'liq bo'lgan pol qiymatdan yuqori bo'lganida hosil bo'ladi. Ushbu eshik ta'siri substrat materiali xavfsizligini ta'minlashda samarali tozalash uchun muhimdir. Bundan tashqari, plazma mavjudligi uchun ikkinchi chegara ham mavjud. Agar energiya zichligi bu chegaradan oshib ketsa, substrat moddasi yo'q qilinadi. Substrat materiali xavfsizligini ta'minlash bo'yicha samarali tozalashni ta'minlash uchun lazer ko'rsatkichlari vaziyatga qarab sozlanishi kerak, shunda yorug'lik pulsining energiyani zichligi ikkita eshik o'rtasida bo'ladi.
Har bir lazer zarbasi kontamine qatlamning ma'lum bir qalinligini yo'q qiladi. Agar ifloslangan qatlam qalin bo'lsa, tozalash uchun ko'plab zarbalar talab qilinadi. Sirtni tozalash uchun zarur bo'lgan zarralar soni sirt zaharlanish darajasiga bog'liq. Ikkala chegara tomonidan ishlab chiqarilgan muhim natijalar - bu tozalashning o'zini o'zi boshqarishidir. Birinchi eshik ustidagi energiya zichligi bilan nurli pulslar substrat moddasiga ulaşana qadar har doim kirleticileri rad etadi. Biroq, uning energiya zichligi substrat materialining yo'qolish chegarasidan pastroq bo'lgani uchun, substrat zarar ko'rmaydi.
